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VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀

簡要描述:VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀與同類設備相比,且具有體積小便于操作的優點,且可使用的材料范圍廣,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-03-30
  • 訪  問  量:1125

詳細介紹

品牌其他品牌價格區間面議
產地類別國產應用領域綜合

IMG_256VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍和兩個電源,一個射頻電源用于非導電材料的濺射鍍膜,一個直流電源用于導電材料的濺射鍍膜,可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,且具有體積小便于操作的優點,且可使用的材料范圍廣,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。
IMG_2591、配置兩個靶槍,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜,應用廣泛。
3、體積小,操作簡便。IMG_261

產品名稱

VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀

產品型號

VTC-600-2HD-1000

安裝條件

本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:設備配有自循環冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)
2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
3、氣:設備腔室內需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶?6mm雙卡套接頭)及減壓閥
4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通風裝置:需要

主要參數

1、輸入電源:220V/50Hz
2、濺射靶數量:2
3、腔體內徑:?300mm
4、靶槍冷卻方式:水冷
5、極限真空度:7.4E-5pa
6、真空室規格:Φ300×330 mm
7、真空系統:VRD-16機械泵 FF-100/150渦輪分子泵
8、恢復真空:系統從大氣抽至5.0E-3pa≤30 min(系統短時間暴露大氣)
9、充氣系統:2路質量流量計(1路氬氣100scc、2路氬氣200scc)特殊氣體可定制
10、濺射靶規格:Φ2",厚度0.1-5mm(因靶材材質不同厚度有所不同)
11、樣品臺:Φ140mm/可旋轉(1~20rpm)/可加熱(室溫~1000℃)

產品規格

主機尺寸:寬900mm×深650mm×高1100mm


 


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